大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于收回碘化銀價(jià)格的問(wèn)題，于是小編就整理了2個(gè)相關(guān)介紹收回碘化銀價(jià)格的解答，讓我們一起看看吧。
使用碘化銀進(jìn)行人工降雨，則是利用碘化銀粉末灑到云層中后，由于碘化銀顆粒中銀與碘之間距離約為280皮米，接近冰中兩個(gè)氧原子間的距離，因此，可起到與小冰晶類似的作用，作為凝聚核，供水蒸氣向上凝結(jié)，創(chuàng)造了降水的條件。 由于碘化銀價(jià)格昂貴，現(xiàn)在許多氣象部門在進(jìn)行人工降雨時(shí)已多不用碘化銀，而采用干冰了。
最近中興事件作為導(dǎo)火索，引發(fā)了國(guó)人關(guān)于芯片討論，其中不免涉及到了芯片制造業(yè)兩大至關(guān)重要的技術(shù)，蝕刻機(jī)和光刻機(jī)，作為一個(gè)業(yè)余愛好者，我為大家分享一下我知道的東西。
什么是光刻機(jī)
光刻機(jī)作為制造芯片的核心裝備之一，因?yàn)橛猛镜牟煌?，分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，用于封裝的光刻機(jī)，還有LED領(lǐng)域的投影光刻機(jī)，目前主要討論的是用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，這也是芯片領(lǐng)域，我國(guó)最薄弱的環(huán)節(jié)。
先了解一下光刻中必須要用的東西——光刻膠，簡(jiǎn)單的來(lái)說(shuō)這種膠狀物，只能被光腐蝕，而不能被化學(xué)物質(zhì)腐蝕，制造芯片時(shí)講光刻膠涂在金屬表面，然后用光把不需要的地方腐蝕掉，制作出自己需要的圖形（電路結(jié)構(gòu)之類的），接下來(lái)就該蝕刻機(jī)上場(chǎng)了。
什么是蝕刻機(jī)
蝕刻分為兩類，一類是干刻，一類是濕刻（目前主流），濕刻就是特定的化學(xué)溶液與上個(gè)部分光刻機(jī)制作后的薄膜發(fā)生反應(yīng)，發(fā)生反應(yīng)過(guò)后剩下的東西，就是需要的東西了，這個(gè)過(guò)程有液體接觸，所以叫濕刻。
干刻更加高級(jí)，目前并沒有大規(guī)模應(yīng)用，它是通過(guò)等離子電漿去除未覆蓋的薄膜。
光刻機(jī) ASML一枝獨(dú)秀
以前光刻機(jī)領(lǐng)域還有佳能尼康制衡ASML，不過(guò)隨著技術(shù)差距越來(lái)越多，目前高端光刻機(jī)市場(chǎng)被ASML壟斷，7nm級(jí)別光刻機(jī)17年的產(chǎn)量只有12臺(tái)，一臺(tái)1.2億美元，還要提前21個(gè)月預(yù)訂，中國(guó)就算排隊(duì)，也不知道哪年買得到，背地里還有有些國(guó)家作怪，目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還處于90nm階段，任重道遠(yuǎn)。
五大蝕刻機(jī)廠商 中微是其一
目前能生產(chǎn)7nm級(jí)別蝕刻機(jī)的有應(yīng)用材料，科林研發(fā)，東京威力科創(chuàng)，日立先端，中微半導(dǎo)體五家公司，中微是唯一一家中國(guó)企業(yè)，并且已經(jīng)開始向臺(tái)積電供貨，中微也代表著中國(guó)頂尖的半導(dǎo)體技術(shù)。
中國(guó)半導(dǎo)體起步晚，需要走的路還很長(zhǎng)，不過(guò)中國(guó)人最不缺的就是毅力，只有堅(jiān)持不懈方能厚積薄發(fā)。
簡(jiǎn)單的回答。
光刻機(jī)劃線，刻蝕機(jī)雕刻。
目前荷蘭10納米光刻機(jī)世界第一，中國(guó)目前光刻機(jī)是90納米，也有說(shuō)是28納米的，總之，光刻機(jī)差距很大。目前刻蝕機(jī)中國(guó)5納米世界第一，據(jù)說(shuō)7納米齊驅(qū)并駕的刻蝕機(jī)還有3家。
謝謝邀請(qǐng)！
光刻機(jī)和蝕刻機(jī)有什么區(qū)別？
這樣的答題必須要有專業(yè)的人才懂，高端芯片制作工藝光刻和蝕刻機(jī)這不是誰(shuí)都懂的，你也許是專業(yè)行家，本人是搞染料化工的，相差十萬(wàn)八千里，那就等于是我問(wèn)你核潛艇的主要結(jié)構(gòu)，你能回答嗎？邀人答題那也要看看邀請(qǐng)對(duì)像才行。還連續(xù)邀請(qǐng)，這不是強(qiáng)人所難嗎？再見！
光刻機(jī)：光刻機(jī)按照用途劃分，有被廠商用于生產(chǎn)芯片的前道光刻機(jī)，有被廠商用于封裝的后道光刻機(jī)（封裝光刻機(jī)），有被廠商用于制造LED產(chǎn)品的投影光刻機(jī)。一般地，我們時(shí)常所談到的光刻機(jī)，指的是前道光刻機(jī)。廠商在生產(chǎn)芯片的過(guò)程中，需要利用光刻機(jī)將掩膜版（臺(tái)灣業(yè)者們稱作光罩）上的電路圖形“復(fù)印”到硅晶圓片上。光刻工藝，指的是廠商在平整的硅片上構(gòu)建半導(dǎo)體MOS管和電路的基礎(chǔ)，利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將掩膜版上的電路圖形傳遞到單晶的表面或介質(zhì)層上，形成有效的圖形窗口或功能圖形。由于在晶圓的表面上，電路設(shè)計(jì)圖案直接由光刻技術(shù)決定，因此光刻工藝也是芯片制造中最核心的環(huán)節(jié)。光刻工藝的價(jià)值巨大，整個(gè)光刻工藝的設(shè)備有勻膠顯影設(shè)備和光刻設(shè)備，光設(shè)機(jī)的價(jià)格是最昂貴的。在行業(yè)中有影響力的光刻機(jī)制造廠商包括荷蘭的ASML，日本的尼康和佳能等。
光刻機(jī)：光刻機(jī)按照用途劃分，有被廠商用于生產(chǎn)芯片的前道光刻機(jī)，有被廠商用于封裝的后道光刻機(jī)（封裝光刻機(jī)），有被廠商用于制造LED產(chǎn)品的投影光刻機(jī)。一般地，我們時(shí)常所談到的光刻機(jī)，指的是前道光刻機(jī)。廠商在生產(chǎn)芯片的過(guò)程中，需要利用光刻機(jī)將掩膜版（臺(tái)灣業(yè)者們稱作光罩）上的電路圖形“復(fù)印”到硅晶圓片上。光刻工藝，指的是廠商在平整的硅片上構(gòu)建半導(dǎo)體MOS管和電路的基礎(chǔ)，利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將掩膜版上的電路圖形傳遞到單晶的表面或介質(zhì)層上，形成有效的圖形窗口或功能圖形。由于在晶圓的表面上，電路設(shè)計(jì)圖案直接由光刻技術(shù)決定，因此光刻工藝也是芯片制造中最核心的環(huán)節(jié)。光刻工藝的價(jià)值巨大，整個(gè)光刻工藝的設(shè)備有勻膠顯影設(shè)備和光刻設(shè)備，光設(shè)機(jī)的價(jià)格是最昂貴的。在行業(yè)中有影響力的光刻機(jī)制造廠商包括荷蘭的ASML，日本的尼康和佳能等。
到此，以上就是小編對(duì)于收回碘化銀價(jià)格的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于收回碘化銀價(jià)格的2點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
